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                  高真空磁控濺射儀  型號(hào):KM1-SD-650MH

                  高真空磁控濺射儀 型號(hào):KM1-SD-650MH

                  簡(jiǎn)要描述:
                  高真空磁控濺射儀 型號(hào):KM1-SD-650MH

                  參數(shù):
                  儀器主機(jī)尺寸: 長(zhǎng) 610mm&#215;寬 420mm&#215;高 220mm(注:含腔體總高 490mm)
                  工作腔室尺寸: 標(biāo)配:玻璃腔體(高度可選):直徑 260mm&#215;高 200mm(外尺寸)
                  直徑 240mm&#215;高 200mm(內(nèi)尺寸)
                  選配:金屬腔體:直徑 260mm&#215;高 270mm(外尺寸 )
                  直徑 210mm&#215;高 270mm(內(nèi)尺寸)

                  產(chǎn)品時(shí)間:2022-02-22

                  訪問(wèn)量:1000

                  廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家

                  生產(chǎn)地址:

                  高真空磁控濺射儀  型號(hào):KM1-SD-650MH  

                  原理:
                  濺射鍍膜的原理是稀薄氣體在
                  異常輝光放電產(chǎn)生的等離子體在電
                  場(chǎng)的作用下,對(duì)陰極靶材表面進(jìn)行轟
                  擊,把靶材表面的分子、原子、離子
                  及電子等濺射出來(lái),被濺射出來(lái)的粒
                  子帶有一定的動(dòng)能,沿一定的方向射
                  向基體表面,在基體表面形成鍍層。
                  濺射時(shí)產(chǎn)生的快電子在正交的電磁
                  場(chǎng)中作近似擺線運(yùn)動(dòng),增加了電子行
                  程,提高了氣體的離化率,同時(shí)高能
                  量粒子與氣體碰撞后失去能量,基體
                  溫度較低,在不耐溫材料上可以完成
                  鍍膜。
                  用途:
                  KM1-SD-650MH 高真空磁控濺射鍍膜儀是袖珍型磁控濺射
                  設(shè)備,主要由濺射真空室、磁控濺射靶、樣品臺(tái)、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、安裝機(jī)臺(tái)、真空測(cè)
                  量及電控系統(tǒng)等部分組成。高真空濺射可用于金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等多種薄膜材料的
                  制備,且具有設(shè)備簡(jiǎn)單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn),可用于大專、科研
                  院所的薄膜材料研究、制備。

                  高真空磁控濺射儀  型號(hào):KM1-SD-650MH  

                  參數(shù):
                  儀器主機(jī)尺寸: 長(zhǎng) 610mm×寬 420mm×高 220mm(注:含腔體總高 490mm)
                  工作腔室尺寸: 標(biāo)配:玻璃腔體(高度可選):直徑 260mm×高 200mm(外尺寸)
                  直徑 240mm×高 200mm(內(nèi)尺寸)
                  選配:金屬腔體:直徑 260mm×高 270mm(外尺寸 )
                  直徑 210mm×高 270mm(內(nèi)尺寸)
                  靶頭: 標(biāo)配:?jiǎn)伟?br/> 選配:雙靶(雙靶儀器主機(jī)尺寸和工作腔體尺寸會(huì)隨之增大)
                  靶材尺寸: 直徑 50mm×厚 3mm(因靶材材質(zhì)不同厚度有所不同)
                  靶材料: 標(biāo)配一塊直徑 50mm×3mm 的銅靶(可選配多種靶材)
                  靶槍冷卻方式: 水冷
                  真空系統(tǒng): 抗沖擊渦輪分子泵,抽速為 300L/s
                  前級(jí)機(jī)械泵: 抽速為 4L/s,帶防返油電磁閥及油污過(guò)濾器
                  真空測(cè)量: 采用復(fù)合真空計(jì)監(jiān)測(cè)真空
                  真空度: 5×10
                  -5Pa(10 分鐘可到 9×10
                  -4Pa)
                  電源: 標(biāo)配:直流恒流電源:輸入電壓:220V
                  輸出電壓:0-600v
                  輸出電流:0-1.6A
                  選配:射頻功率電源:功率 1000W,配射頻匹配器。
                  載樣臺(tái): 直徑 200mm,可根據(jù)客戶需求定制載樣臺(tái)。
                  工作氣體: Ar 等惰性氣體(需自備氣瓶及減壓閥)
                  氣路: 濺射真空度手動(dòng)調(diào)整(可選配氣體質(zhì)量流量計(jì))
                  水冷: 自循環(huán)冷卻水機(jī)
                  電源電壓: 220V 50Hz
                  啟動(dòng)功率 3KW

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